高温加熱炉

　ヒーターはタングステンフィラメントを使用。発熱温度は約3200Kと高く、

　ワット密度もニクロムヒーターに比べ、10～20倍です。

　発光した赤外線輻射光は効率良く反射集光し、高い加熱能力を一段と高めま

　す。熱容量の少ない発熱ランプと冷却された高反射鏡だけの炉の熱容量は極小

　で、急速加熱冷却を可能にします。真空気密構造（特許申請中）で石英管等の

　チャンバーを内蔵する必要がない為、直接輻射加熱ができクリーン急速加熱冷

　却が可能です。

　・簡単構造でメンテナンスフリー

　・1000℃まで20秒

　・試料サイズ最大φ70mm×10ｔを加熱

　・赤外線集光で秒速高温均一加熱・冷却を実現

　・サンプルだけのクリーン加熱

　・簡単構造でメンテナンスフリー

　・試料サイズ最大φ１５×７０Ｌを加熱

　・熱効率を極めた試料ホルダーを標準装備

　・赤外線集光で秒速高温均一加熱・冷却を実現

またはロウ付けやハンダの溶解や濡れの「その場観察」を実現

　・サンプルだけの赤外線集光で秒速高温均一加熱　・クリーン加熱とクリヤーな高温観察・簡単構造でメンテナンスフリー

　基本構成

　1. 加熱炉本体　2. 試料ホルダー（□100mm石英ホルダー・Ｒ熱電対・均熱板）　3. 温度制御器

　高速集光加熱炉と高温観察ユニット（顕微鏡）を組み合わせ、高速加熱・省エネ

　／省スペース・リアルタイム温度制御が可能な、その場観察高温引張試験機の開